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    二次反射 理光PJ WX4130垂直投影测试
      [  中关村在线 原创  ]   作者:  |  责编:彭文娟
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      由于,我们从外部无法完整的直视机身内部的结构,在一定角度只能窥探到1片反射镜,我们将成像的原理作了一份简单的成像原理示意图。我们只有在开机的状态下,可以大致的窥探到内部的成像结构。 

    二次反射 理光PJ WX4130垂直投影测试
    二次反射投影工作原理示意图

      其中,第一片为平面镜,第二片为曲面镜,两次反射不仅夸张的缩短了投影距离,而且也大大提高了工业设计的难度,这也是WX4130售价不菲的关键原因所在。

    二次反射 理光PJ WX4130垂直投影测试
    投影示意图

      实际操作,在贴近墙面时即可使用,其投射比达到0.2。与多数超短焦机型相比,WX4130的投射比非常出色,达到了业界数一数二的水平。业内最夸张的投射比为0.19,但是机身要比WX4130庞大许多。

    二次反射 理光PJ WX4130垂直投影测试   二次反射 理光PJ WX4130垂直投影测试
    投影距离示意图  

      作为超短焦机型,非常适合互动手写操作应用。只有从近机身端才会产生明显的阴影,即我们采用吊顶安装后,阴影将会控制的非常小。

    projector.zol.com.cn true //projector.zol.com.cn/305/3055084.html report 705   由于,我们从外部无法完整的直视机身内部的结构,在一定角度只能窥探到1片反射镜,我们将成像的原理作了一份简单的成像原理示意图。我们只有在开机的状态下,可以大致的窥探到内部的成像结构。 二次反射投影工作原理示意图  其中,第一片为平面镜,第二片为曲...
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